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华体会体育hth-优化强磁场,扩大半导体制造规模

Time:2024年06月19日 | Author:华体会体育hth

来源:AIP

可以优化磁场来提高激光驱动等离子体产生的极紫外辐射量。

极紫外 (EUV) 光刻技术使用激光驱动等离子体产生,对于我们扩大半导体制造规模至关重要。EUV 通常由激光产生的等离子体 (LPP) 产生,但研究人员尚未充分研究产生这些等离子体的一种关键方法的影响:强磁场。Kim 等人模拟了强磁场下 LPP 的特性,证明了磁场可以显著改变等离子体特性,从而影响 EUV 的产生。

研究团队发现,LPP 高度依赖于施加到等离子体的磁场强度和方向,从而产生各向异性的等离子体约束,对此可以进行调整,减少逸散的辐射量。这些结果可用于优化磁场并最大限度地提高 EUV 的产率。

作者 Joohwan Kim 表示:“这种磁约束等离子体内的带电粒子传输有利于有效加热等离子体。磁约束和增强加热使辐射更容易逸出,同时减少损失,与非磁化等离子体相比,可实现更高的 EUV 产量。”

在研究中,该团队使用模拟工具 FLASH(用于辐射流体动力学)和 SPECT3D(用于原子动力学)来模拟 LPP、EUV 生成和辐射传输,激光强度低于 1011 W cm−2。这些技术使该团队能够针对给定的磁场强度模拟不同角度的 EUV 通量。

Kim 表示,未来可以朝着研究中以外的参数进行探索,例如改变磁场中的激光强度并结合预脉冲过程。

原文链接:

https://ww2.aip.org/scilights/optimizing-strong-magnetic-fields-to-scale-up-semiconductor-manufacturing

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