来源：AIP

可以优化磁场来提高激光驱动等离子体产生的极紫外辐射量。

极紫外 (EUV) 光刻技术使用激光驱动等离子体产生，对于我们扩大半导体制造规模至关重要。EUV 通常由激光产生的等离子体 (LPP) 产生，但研究人员尚未充分研究产生这些等离子体的一种关键方法的影响：强磁场。Kim 等人模拟了强磁场下 LPP 的特性，证明了磁场可以显著改变等离子体特性，从而影响 EUV 的产生。

研究团队发现，LPP 高度依赖于施加到等离子体的磁场强度和方向，从而产生各向异性的等离子体约束，对此可以进行调整，减少逸散的辐射量。这些结果可用于优化磁场并最大限度地提高 EUV 的产率。

作者 Joohwan Kim 表示：“这种磁约束等离子体内的带电粒子传输有利于有效加热等离子体。磁约束和增强加热使辐射更容易逸出，同时减少损失，与非磁化等离子体相比，可实现更高的 EUV 产量。”

在研究中，该团队使用模拟工具 FLASH（用于辐射流体动力学）和 SPECT3D（用于原子动力学）来模拟 LPP、EUV 生成和辐射传输，激光强度低于 1011 W cm−2。这些技术使该团队能够针对给定的磁场强度模拟不同角度的 EUV 通量。

Kim 表示，未来可以朝着研究中以外的参数进行探索，例如改变磁场中的激光强度并结合预脉冲过程。

原文链接：

https://ww2.aip.org/scilights/optimizing-strong-magnetic-fields-to-scale-up-semiconductor-manufacturing

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