8 月 1 日，璞璘科技成功交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻系统 PL-SR 系列。

该设备攻克了多项关键技术难题，可实现线宽＜10nm 的纳米压印光刻工艺。其高精度喷墨打印式涂胶方案和对准功能，可满足复杂结构的拼接需求，最小可实现 20mmx20mm 压印模板的均匀拼接，最终达成 300mm 晶圆级超大面积模板的制作。目前，该设备已在储存芯片、硅基微显、硅光及先进封装等领域完成研发验证，展现出广阔的应用前景。

璞璘科技成立于2017年，经营范围包括电子专用材料研发、电子专用设备制造与销售、半导体器件专用设备制造与销售等，是国家高新技术企业。产品及服务涵盖半导体制造、消费电子、车载电子、光电显示、生物医学、新能源制造等众多领域，可为用户提供从工艺开发到设备及耗材量产的纳米压印全闭环解决方案，产品已远销美国、加拿大等国家。